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晶圓水平多腔電鍍設備
晶圓水平多腔電鍍設備
晶圓尺寸:
150mm&200mm&300mm
設備配置:
-無或2個loadports
-8個或多個電鍍腔體:Cu、Ni、Sn/Ag、Au
-電鍍液種類:Cu、Ni、Sn/Ag、Au;
-具備預濕腔體和清洗功能;
-水平式電鍍腔體,無交叉污染
-支持單腔體維護,提高設備正常運行時間
-橡膠密封技術,更佳密封性能
-陰陽極分離技術,更佳鍍液穩(wěn)定性
工藝指標:
高度均勻性:WiW≤5%,WtW≤5%,RtR≤5%

應用領域
Pillar,Bump,RDL,TSV等工藝
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晶圓水平電鍍設備
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